KLA-TENCOR将光刻叠对控制扩展到65 mm节点以下

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《中国电子报》2005年6月报导:KLA-Tencor日前正式推出了世界最新的叠对计量解决方案Archer AIM+系统,该系统专门用于满足芯片制造商对65 mm节点以下的光刻叠对控制要求。 China Electronics News (June 2005): KLA-Tencor has officially launched the world’s new Archer AIM + system for overlay metering solutions designed specifically to meet the needs of chipmakers for litho-overlay control of 65 mm and below Claim.
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