电子束掺杂磷

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：junee1122

【摘要】

：

本文提出了一种新的半导体掺杂方法.将掺杂杂质涂敷在待掺杂的半导体表面,利用连续电子束辐照实现了掺杂.其结深可由电子束的参数调节加以控制. 对掺磷的电子束掺杂层进行测

【作者】

：

李秀琼孙慧玲王培大

【机构】

：

中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体研究所,中国科学院电工研究所电子束加工组

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1984年01期

【关键词】

：

掺杂层掺杂法平面二极管低能电子衍射半导体掺杂

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本文提出了一种新的半导体掺杂方法.将掺杂杂质涂敷在待掺杂的半导体表面,利用连续电子束辐照实现了掺杂.其结深可由电子束的参数调节加以控制. 对掺磷的电子束掺杂层进行测量分析,表明,N_P=3.5 × 10¹⁰cm^-3,层内N（x）的变化范围为 10¹²-10²⁰cm^-3,μ（x）为 57-130（cm²/V·scc）;低能电子衍射图案呈单晶衍射点和菊池线;沟道背散射测量电子束掺杂层损伤比离子注入的小得多.用这一掺杂法研制成功的平面二极管,性能良好.

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