光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析

来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：haiwei2009

【摘要】

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在阐述投影成像光刻光瞳滤波技术原理与滤波器设计的基础上,详细分析研究了滤波成像光刻图形质量影响因素.指出影响图形质量的因素除了滤波器设计本身存在误差,主要还存在滤

【作者】

：

陈旭南石建平罗先刚康西巧

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

【出处】

：

微纳电子技术

【发表日期】

：

2004年9期

【关键词】

：

光瞳滤波光刻图形质量影响因素分辨力焦深 pupil filtering influence factors on photolithography pat

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在阐述投影成像光刻光瞳滤波技术原理与滤波器设计的基础上,详细分析研究了滤波成像光刻图形质量影响因素.指出影响图形质量的因素除了滤波器设计本身存在误差,主要还存在滤波器的制作误差、滤波器在成像光路中放置的位置误差和光刻工艺条件等因素.实验表明只有注意控制好这些影响因素,才能很好挖掘该技术提高光刻分辨力、增大焦深的潜能.

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