Al诱导a-Si：H薄膜的晶化

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：11-Jun

【摘要】

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采用等离子体化学气相沉积方法在镀Al玻璃及单晶Si衬底上制备了氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜,研究了样品在不同的热处理过程中Al对其晶化过程的影响.X射线衍射测量发现,由于Al的存

【作者】

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祁菁金晶胡海龙贺德衍

【机构】

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兰州大学物理系

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

A-SI:H薄膜 SI衬底非晶硅幅度等离子体化学气相沉积晶化单晶结晶取向热处理过程成核 Aluminum Amorphous films Amo

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采用等离子体化学气相沉积方法在镀Al玻璃及单晶Si衬底上制备了氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜,研究了样品在不同的热处理过程中Al对其晶化过程的影响.X射线衍射测量发现,由于Al的存在使a-Si:H的晶化温度大幅度降低,并得到了有强烈(111)结晶取向的多晶Si薄膜.X射线光电子能谱分析表明,热处理过程中Al向Si薄膜表面的扩散降低了Si的成核温度.

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