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采用非平衡磁控溅射沉积技术制备纯MoS2和不同Ti掺杂量的MoS2．Ti复合薄膜。用SEM和XRD对薄膜的形貌和结构进行分析，用纳米划痕仪测试薄膜与基底问的附着力，用球-盘摩擦试验机评价薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能。研究结果表明：在溅射沉积MoS2薄膜过程中掺杂金属Ti，有效地阻断了MoS2疏松、多孔柱状晶的优势生长，从而生成组织结构致密、无定形态的薄膜，提高了其与基底问的附着力。掺Ti复合薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能都得到显著改善，真空环境中10％Ti含量的薄膜耐磨寿命最长，是纯MoS2膜的