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射频磁控溅射法制备BST薄膜及性能研究
射频磁控溅射法制备BST薄膜及性能研究
来源 :压电与声光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sjzm2009
【摘 要】
:
采用射频磁控溅射法制备了钛酸锶钡薄膜材料,研究了薄膜的晶体结构和微观形貌,测试了其偏压特性曲线和电滞回线.初步探讨了εr-E曲线、电滞回线发生平移的原因:上下电极与钛
【作 者】
:
陈宏伟
杨传仁
符春林
裴亚芳
胡立业
【机 构】
:
电子科技大学
【出 处】
:
压电与声光
【发表日期】
:
2005年3期
【关键词】
:
射频磁控溅射
钛酸锶钡
铁电薄膜
εr-E曲线
电滞回线
RF magnetron sputtering
Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3
fer
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采用射频磁控溅射法制备了钛酸锶钡薄膜材料,研究了薄膜的晶体结构和微观形貌,测试了其偏压特性曲线和电滞回线.初步探讨了εr-E曲线、电滞回线发生平移的原因:上下电极与钛酸锶钡薄膜间的界面势垒不对称.
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