【摘 要】
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TDDB（Time dependent Dielectric Breakdown）时间相关介质击穿，表征与时间相关的介质电击穿。在金属场效应管器件里是用来测试栅氧层可靠性的关键参数。PEM（process evaluation m
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TDDB（Time dependent Dielectric Breakdown）时间相关介质击穿，表征与时间相关的介质电击穿。在金属场效应管器件里是用来测试栅氧层可靠性的关键参数。PEM（process evaluation module）可靠性测试片上发现，多晶叉齿结构更易造成TDDB失效。交叉实验研究表明氮化硅上顶层金属在热过程下的形变是TDDB在PEM结构上失效的主要原因。可以通过降低退火温度和氮化硅压应力的补偿来改善，可有效解决TDDB失效。同时发现介质层ILD的膜质组成也会对TDDB失效有一定
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