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许多新的等离子体工艺思想正在由实验室走向工厂。它们要求高压（ＨＶ）脉冲电源设备，而这些设备在应用、系统效率和可靠性方面必须是最佳的。虽然没有哪一种高压脉冲技术能适合于所有等离子体工艺，但各式各样的高压脉冲发生器可向制造商提供较大的变通性和经济性。为现有雷达和粒子加速器调制器电源系统发展起来的技术可用于研制一台现代大规模等离子体源离子植入（ＰＳＩＩ）系统。高压脉冲电路大致包含两类系统，直接产生电压的