该文研究了脉冲激光烧蚀沉积(PLAD)的方法制备铁电薄膜SrBiTaO(SBT),并且采用时间分辨和角分辨的飞行时间四极质谱法和荧光发光光......

本论文的研究内容可以分为两大部分:一是采用脉冲激光沉积（pulsed laserdeposition,PLD）结合直流反常辉光放电等离子体反应沉积（direc......

为了对纳米Si薄膜中晶粒尺寸的分布进行定量研究，首次提出“晶粒尺寸均匀度”的概念，并对Lowndes等人采用脉冲激光烧蚀方法制备纳米S......

采用XeCl脉冲准分子激光器，保持激光脉冲比为1：2，分时烧蚀Er靶和高阻抗单晶Si靶。改变激光能量，在真空中沉积了掺Er非晶Si薄膜。在氮气......

本文的主要内容是利用辉光等离子体辅助化学气相沉积法(GPCVD)和脉冲激光沉积法(PLD)在硅衬底上制备垂直排列的碳氮纳米锥阵列(CNN......