注氮硅中光致发光现象及其机制的研究

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通过能量为100keV,剂量为1×1018cm-2的N+注入到硅基体中,经1000~1200℃之间快速退火后,形成了含氧的硅与氮化硅镶嵌结构的薄膜层.在室温下观测到主要来自于45nm表面层的能量分别为:3.3eV、3.0eV、2.8eV和2.2eV的光致发光.通过XPS、AES的分析,确认了由于氧的插入,样品中N-Si-O缺陷,Si/SiO2界面发光中心,分别是引起3.0eV和2.2eV的光致发光的主要原因. The nanostructures were infiltrated into the silicon substrate with N + ions at a dose of 1 × 10 18 cm -2 and energy of 100 keV. After rapid annealing between 1000 and 1200 ° C, a thin film layer of silicon and silicon nitride inlaid structure was formed. The energy mainly from the 45 nm surface layer was observed at room temperature as photoluminescence of 3.3 eV, 3.0 eV, 2.8 eV and 2.2 eV, respectively. Analysis by XPS and AES confirmed that N-Si-O defects and Si / SiO2 interface luminescence centers in the sample were the main causes of photoluminescence of 3.0 eV and 2.2 eV, respectively, due to the insertion of oxygen.
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