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采用ＣＶＤ技术实现了Ａｌ２Ｏ３薄膜的数字化生长，实验结果表明这种生长方法具有生长温度低、层厚可控等特点，生长出的薄膜每周期生长厚度约为１．１９。
绝缘介质Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜的数字化生长技术
【摘 要】
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采用ＣＶＤ技术实现了Ａｌ２Ｏ３薄膜的数字化生长，实验结果表明这种生长方法具有生长温度低、层厚可控等特点，生长出的薄膜每周期生长厚度约为１．１９。
【机 构】
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吉林大学电子工程系集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区
【出 处】
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仪器仪表学报
【发表日期】
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1995年S1期
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