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分析以往批处理清洗技术面临的问题及现代清洗技术的关键要求,介绍了采用臭氧的单晶圆清洗工艺,提出了臭氧清洗需要解决的问题。
单晶圆清洗技术的研究
【摘 要】
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分析以往批处理清洗技术面临的问题及现代清洗技术的关键要求,介绍了采用臭氧的单晶圆清洗工艺,提出了臭氧清洗需要解决的问题。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第二研究所
【出 处】
：
科技情报开发与经济
【发表日期】
：
2009年29期
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