【摘 要】
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集成电路隔离技术概述（续Ⅰ）宋湘云编译６ 全凹槽氧化物ＬＯＣＯＳ工艺全凹槽氧化物ＬＯＣＯＳ工艺已经在双极ＩＣ制造中得到广泛应用。在生长衬垫氧化物和淀积Ｓｉ＿３Ｎ＿４后，腐蚀掉标准埋层集电极双极工艺中二分之一
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集成电路隔离技术概述（续Ⅰ）宋湘云编译６ 全凹槽氧化物ＬＯＣＯＳ工艺全凹槽氧化物ＬＯＣＯＳ工艺已经在双极ＩＣ制造中得到广泛应用。在生长衬垫氧化物和淀积Ｓｉ＿３Ｎ＿４后，腐蚀掉标准埋层集电极双极工艺中二分之一到三分之二的外延层，光刻后留下的Ｓｉ＿３Ｎ＿...
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