离子辅助相关论文
研究了热蒸发法和80,120 V偏压下的氩离子辅助淀积的氟化镱(YbF3)红外薄膜的光学特性和微观结构,用光度计和椭偏仪分别测量了YbF3......
紫外光通信作为一种新型通信手段,以其保密性高、抗干扰能力强等优点在军事领域得到越来越广泛的重视。为满足紫外光通信系统的要......
可见与红外的制导系统作为一种制导手段,在军事领域得到了越来越广泛的重视。为了满足红外光学仪器的使用要求,根据薄膜光学理论对......
薄膜的制备工艺技术是通过各种工艺条件的控制,如真空、膜厚监控和温度控制等来使蒸发膜料在基片沉积形成薄膜状态。每一个工艺因......
真空镀膜产品的质量问题 ,一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索 ,采用离子束辅助沉积镀膜技术 ,改善了镀膜层牢固......
涂层技术在西方发达国家从20世纪70年代就开始应用于工业生产,被广泛地应用于切削刀具、成型模具、汽车零部件及工业零部件上,在提......
为进一步提高碳化硅反射镜基底表面光学质量,满足高质量空间光学系统的应用需求,采用电子枪蒸发纯硅,霍尔离子源喷出的氩离子电离......
直接抛光后的SiC反射镜表面光学散射仍较大,无法满足高质量空间光学系统的心用需求.为此必须对SiC反射镜进行表而改性,以获得高质......
为了提高硫化锌基底的透过率和膜层的机械强度，对硫化锌基底上的红外宽带减反射膜的设计和制备工艺进行了研究。经过实验，选取镀膜材......
针对波长为650nm和10.6μm的激光器,选用了ZnS和YbF3作为膜料,采用离子辅助沉积技术,在多光谱ZnS基底上制备了650nm反射10.6μm透......
介绍在可见光范围内,在玻璃基底上制备铝膜,保护膜采用高反介质膜堆。采用离子辅助手段,使其反射率在450nm～750nm波长范围内提高到9......
硫化锌(ZnS)透镜由于其透光区域较宽,便于光学系统的装校而被经常应用于红外光学系统中,但是其作为基底,镀制中长波红外增透膜却具......
为了提高锗基底的透过率和环境适应性,镀制了增透保护膜。应用电子枪蒸发加霍尔离子源辅助的方法沉积了碳化锗(Ge1-xCx)薄膜。通过......
目的采用热蒸发沉积技术制备可用于人脸部识别的850 nm滤光片,研究滤光片的激光损伤阈值以及薄膜内部的电场分布。方法采用TFC膜系......
为满足望远镜等光学系统中光学元件可见光范围宽光谱增透的要求,根据Tfcale软件优化设计膜系,使用离子辅助沉积,晶振膜厚控制仪,电......
为满足大气辐射系统中光学元件的使用要求,即可见与近红外波段高透过,根据双有效界面法设计原理配合膜系软件设计膜系,采用离子辅......
针对大型激光系统中光束质量低和波前畸变等特点,采用离子辅助电子束蒸发技术成功实现对多层膜残余应力的精确控制。通过分析氧化......
本课题研究的是应用于紫外可见望远系统的滤光膜,为满足滤光膜的要求,在薄膜设计中对几种常用紫外薄膜材料进行了对比研究,选定高......
研究了离子能量在薄膜制备过程中对TiO2和SiO2薄膜应力的影响。用电子束蒸发的方法制备TiO2和SiO2薄膜,使用实验室自行设计制作的......
测量了End-Hall离子源在不同条件下的离子束流密度,在不同离子束流密度下进行了Ar离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验,研究了离子束流密度......
采用离子辅助/中频磁控反应溅射工艺进行氧化硅、氮化硅、氧化铌薄膜材料的沉积实验,探讨溅射工作条件和工艺参数对于膜层材料的加......
随着光学薄膜技术的不断发展,光学薄膜器件的应用日益广泛,光学薄膜的研究已被提到了极其重要的地位。为了制备出大功率激光器中激......
为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软......
运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮......
本文简单介绍激光的基本原理，着重说明了激光器光学谐振腔上的高反射膜的作用。详细研究了该腔面膜的优化和工艺制备过程。 由激......
