CN_x相关论文
对用微波等离子体化学汽相沉积法沉积在Ｓｉ基片上的ＣＮｘ膜分别进行Ｒａｍａｎ散射、Ｘ射线光电子能谱、Ｘ射线衍射和扫描电子显微镜等技术的分析与测试．Ｒａｍａｎ散......
采用直流辉光放电辅助脉冲激光沉积(PLD)法,以不同的激光通量在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱、X射线衍......
ＣＮｘ薄膜是一种新型的超硬膜。我们用等离子增强化学气相淀积法（ＰＣＶＤ），制备出了含氮量为２１ａｔ％的ＣＮｘ膜，并用俄歇电子探针，红外谱仪和拉曼光谱仪及Ｘ光衍射仪......
报道了利用100Kev高剂量N~+在不同的温度条件下注入C膜合成新型超硬材料β-C_3N_4的新结果.对这种新材料进行了X射线光电子能谱,Fo......
采用反应溅射方法制备了氮化碳薄膜，研究了反应气体压力、溅射功率对薄膜形成的影响，并用Ｘ射线电子能谱（ＸＰＳ） 和富里叶变换红外光谱（ＦＴＩＲ）对样品......
用脉冲偏压电弧离子镀通过控制不同的氮流量在(100)单晶Si基片上制备了不同成分的CNx薄膜.用光学显微镜,XPS,XRD,激光Raman和Nanoi......
采用脉冲激光沉积法(PLD)在不同激光通量下烧蚀CNx靶,在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X......
以脉冲激光沉积(PLD)的CNx材料为靶源,以单晶Si片为衬底,在N2气压为2～11Pa下PLD制备了CNx薄膜。采用X射线光电子能谱(XPS)、拉曼(Ra......
在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。系统地研究了氮化碳薄膜的电子结构和光学性质随温度的变化规律。用富里叶变......
陶瓷是一种具有广阔应用前景的新型工程材料，其以耐高温、耐腐蚀、耐磨损和抗氧化等诸多优点而受到人们的关注。氧化铝陶瓷是应用最......
