二氧化硅薄膜相关论文
本文用Z扫描方法测量了InSb-SiO纳米颗粒膜的非线性光学吸收特性,观察到了InSb纳米颗粒的双光子吸收现象,由于量子限域效应,镶嵌在......
SiO薄膜由于具有良好的透光性和低的光损耗性能,在光的分束合束、波分复用等集成光学及高精度光栅等元器件中具有重要应用.这些薄......
悬空二氧化硅(SiO2)薄膜结构广泛用于制作微纳器件.悬空薄膜与衬底间微、纳米量级的间隙会导致两者间出现近场辐射传热,破坏悬空薄......
为了在高功率980nm激光器工艺中生长出高质量、均匀性好、致密性高的SiO2介质层，研究了PECVD的工作压力、射频功率、SiH4与N2O流量......
实现硅基光互连现在亟待解决的问题是获得与当今集成电路制造工艺兼容的高效硅基光源.掺铒硅基材料由于其发光峰位于1.54μm光通信......
设计了达到截止蓝光目的的膜系,并采用磁控溅射镀膜工艺,以TiO2和SiO2作为介质膜,通过优化工艺参数,在玻璃基片成功制备了具有截止......
本文研究了金属氧化物薄膜晶体管栅极二氧化硅薄膜绝缘层的制备和性能.二氧化硅的制备采用低温等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)......
本文选取了不含H的SiCl/O混合气体作为反应源气体,并利用普通的PECVD技术实现低温沉积Si基微米厚度的SiO薄膜,测试并分析沉积速率......
采用SiO2的缺陷带模型解释电应力击穿SiO2薄膜由软击穿(SBD)到硬击穿(HBD)的电流突变。结果表明，当击穿通道上的缺陷原子的距离达到......
采用Harrison变分法，研究了SiO2的缺陷能带结构和性质。当SiO2中形成缺陷能带时，引起应力感应漏电流(SILC)；当缺陷的间距更近时发生软......
在电场压力作用下的SiO薄膜中能产生缺陷.本文讨论在直接隧道应力模式下超薄二氧化硅薄膜晶体缺陷的产生机制及原理.......
分别通过向沉积液内添加表面活性剂、改变沉积电压、调节沉积液PH值、改变电沉积时间等条件在阳极氧化铝表面交流电沉积二氧化硅薄......
采用溶胶-凝胶技术以正硅酸四乙酯为硅源,以依次旋涂了甜菜碱溶液和聚-α-甲基苯乙烯(PAMS)溶液的玻璃为衬底,旋涂二氧化硅溶胶.通......
将溶解有噻吩甲酰三氟丙酮(TTA)的乙醇溶液和三氯化铕水溶液分别加入正硅酸乙脂、γ-缩水甘油氧基三甲氧基丙烯酸甲酯、乙醇和去离......
利用热生长法在单晶硅(100面)表面制备了不同厚度的SiO2薄膜,用白光反射光谱测量了所制备的薄膜的厚度,并将测量结果与椭偏仪测量......
对ICPCVD(感应耦合等离子气相沉积)设备功能进行了分析,利用该设备在低温(20℃)下进行了工艺实验,通过对功率、压力、流量等关键参......
随着ULSI集成度的迅速提高,MOS器件尺寸已进入0.1微米量级.按等比例缩小规则,栅氧化层厚度已小于4nm.在MOS器件的正常工作电压下,......
在电场压力作用下的SiO薄膜中能产生缺陷.本文讨论在直接隧道应力模式下超薄二氧化硅薄膜晶体缺陷的产生机制及原理.......
<正>由于成熟的硅平面工艺已使硅成为目前不可取代的最重要的半导体材料,因此为了实现未来的硅基光电子集成,硅基发光材料正成为研......
分别通过向沉积液内添加表面活性剂、改变沉积电压、调节沉积液PH值、改变电沉积时间等条件在阳极氧化铝表面交流电沉积二氧化......
大气压非平衡等离子体枪是近年来发展的一种新型的薄膜沉积方法,由于其相较于传统的气相镀膜方法,具有常压、低温、沉积速率快、设......
采用溶胶凝胶浸镀二氧化硅薄膜的方法修饰改善微晶玻璃表面缺陷。通过光学显微镜观察镀膜后膜层的典型形貌提出了较合适的溶胶组成......
氧化亚铜由于具有较窄的带隙能,且在可见光区有吸收,在光电化学中有重要的应用。本文采用两步法电沉积制备了以二氧化硅为模板......
超疏水材料由于其自身的重要性，在实际应用和基础研究中都引起了人们浓厚的兴趣和关注。本文在TEOS/水/醇体系中，采用电化学沉积......
@@本文采用溶剂蒸发诱导自组装(EISA)方法，以嵌段共聚物F127为有机模板，正硅酸乙酯为硅源，在酸性条件下制备出有序介孔二氧化硅薄膜。......
首先推导出了加入材料介质声损耗的一维Mason模型,并利用该模型分析了支持层结构对FBAR器件谐振特性的影响,包括不同支持层材料及......
随着超大规模集成电路器件的集成密度的提高,多层金属化技术变得愈加重要.逻辑器件的中间介质层将增加到四至五层,导线间的阻......
采用RF磁控溅射技术制备含纳米硅的SiO2薄膜.通过对Si-SiO2复合靶的比分进行调节控制,并在不同的温度下进行高温退火得到不同......
目的：采用溶胶－凝胶法制备SiO2薄膜，探讨该薄膜是否会影响烤瓷修复体的色泽。 方法：采用溶胶-凝胶的方法分别在烤瓷牙基底冠表面、......
光学薄膜是激光系统的关键部件，研究薄膜的残余应力是非常重要的。薄膜应力是薄膜生产、制备中的一种普遍现象，几乎所有的薄膜都处于......
微机电系统(MEMS)这一概念始于上个世纪80年代,它一般是指关键尺度在亚微米到亚毫米范围内电子和机械元器件组成的器件或系统。MEM......
硅锗纳米材料由于自身的优良性能以及在光电方面展示出的与常规材料不同的特性,使得其在微电子和光电子领域内有着广泛的应用前景......
微孔SiO2薄膜热稳定性好、化学性质稳定、容易再生、易控制孔径大小和尺寸分布等优点。但SiO2膜的水热稳定性差，在湿热环境长期使用......
SiO2具有良好的化学稳定性和热稳定性，与硅半导体材料良好的界面结合，在催化剂载体、介质层材料以及硅基光电子材料等领域具有广泛的......
光电功能材料是一类非常重要的功能材料。随着信息技术的发展，作为超大规模集成电路器件中钝化膜和介质膜的纳米多孔二氧化硅薄膜，显......
分析归纳了国内外近几年来超疏水材料制备与研究的最新进展,介绍了超疏水薄膜的基本理论、主要制备方法及应用前景,指出了制备超疏......
激光器元件的性能和功率与光学薄膜的质量密切相关，光学薄膜是其重要组成部分。要满足激光器的需要，光学薄膜必须具有超强的抗激光损......
二氧化硅薄膜因其良好的电绝缘性、耐磨耐压、抗腐蚀能力强等诸多优点，被广泛应用在微电子、光学、太阳能电池等领域。本文将重点阐......
以硅单晶片作为衬底且充当栅电极,在衬底上热生长二氧化硅薄膜作为栅介质层,磁控溅射制备的氧化锌薄膜作为半导体活性层,真空蒸镀......
有机分子电子材料的研究是综合了有机化学、固体物理以及微电子工程等多种学科的一个交叉领域.与传统无机材料相比,有机材料可以通......
二氧化硅(SiO2)凝胶具备许多独特的性能,如良好的绝热性,密度低且具有多孔结构,透光性能良好,反射指数低等,使其在光学、催化、传......
