热丝辅助相关论文
a-Si:H薄膜在加装了一圈环状热丝的WMECR-CVD系统中,通过等离子体分解SiH进行生长.与生长时无热丝辅助相比,在热丝辅助下高速生长......
利用热丝辅助射频溅射法在Ｓｉ（１００）衬底上生长了ＣＮ〈，Ｘ〉薄膜，俄歇能谱（ＡＥＳ）测得薄膜中氮的含量为２１℅，红外吸收谱和拉曼谱呈现Ｃ≡Ｎ，Ｃ＝Ｎ和Ｃ－Ｎ的吸收峰，Ｘ光衍射分析表......
该文采用热丝辅助射频等郭子体化学气相沉积（ＣＶＤ）方法在镍衬底上生长立方氮化硼（ｃ－ＢＮ）薄膜，通过Ｘ－射线衍射（ＸＲＤ）分析，无六方相（ｈ－ＢＮ）或其它杂相，且从扫描电镜（ＳＥＭ）形......
着重研究了采用热丝辅助等离子体化学气相沉积+负偏压技术,在CN薄膜制备过程中各种工艺参数(射频功率、衬底负偏压和衬底温度等)对......
