等离子体源相关论文
该文简要描述了一台频率为2.45GHz的电子回旋共振(ECR)等离子体源的特性测试,表明放电室内的等离子体密度和电子温度与静态磁场,微波输入功率和真......
本文采用平板式电容耦合射频(RF,13.56MHz)等离子体源,以丙烯胺(allylamine)为聚合单体,氩气为辅助气体,沉积合胺基的功能薄膜。实......
该文简要描述了一台频率为2.45 GHz 的电子回旋共振(ECR)等离子体源的特性测试,表明放电室内的等离子体密度和电子温度与静态磁场、......
A plasma source utilizing direct current (DC) voltage between an anode and a hot hollow cathode is employed to create hi......
A research topic of great interest to the space physics community is the observation of plasmas flowing at hundreds of k......
近年来,常压开源质谱解吸/离子化(ambient desorption/ionization mass spectrometry)技术的开发促进了质谱分析的蓬勃发展.作为常......
现行的离子注入除可有效地用于半导体和集成电路生产外还可用于金属表面改性.但它是一种“直视”加工,如靶是非平面状的,为了能注......
采用微波三探针研究了环形波导等离子体源阻抗特性随运行参数的变化。分析了微波等离子体源的阻抗特性。该方法有助于微波等离子体......
讨论等离子体刻蚀及其等离子体源在微电子工业中的作用,介绍四种高效等离子体源,并讨论这一领域亟待解决的问题。
Discuss the ro......
利用高等离子体密度、高电子温度和高离化率的ECR微波等离子体增强二极溅射、磁控溅射反应沉积金属氨化物薄膜。实验结果表明,ECR微......
本文介绍各种类型ECR等离子体源和工艺研究,以及由此发展形成的几种新型刻蚀技术。
This article describes the various types of EC......
据美国 Physics Today,1999,52:9报道,美国劳伦斯伯克利国家实验室的科学家蒙蒂罗(O.Monteiro),成功地在集成电路上沉积了铜导线,......
1引言一年半以前,国际SEMATECH财团将光学光刻的接班技术选择缩小到4种:极紫外(EUV)、离子投影光刻(IPL)、限角散射投影电子束光刻(SCALPEL)和x射线光刻技术。已证实......
介绍了阴极真空弧沉积中,弧源在阴极接地和阳极接地2种不同工作状态下的工作特性.发现阳极接地时,因沉积靶室入口法兰的第二阳极作用,......
由中国科学院院士刘盛钢教授主持,核工业西南物理研究所、中国科学院等离子体物理研究所、大连理工大学和中国科技大学共同参加的国......
本文介绍了等离子体源的构造和性能,在较高真空条件下实现离子强化和镀膜一体化技术。氮离子流强达到8mA/cm2、氮化速度达到80μm/hr,在材料表面形......
大连理工大学“材料表面工程”学科博士学位授予点,是在学科目录之外,国务院学位委员会批准的我国第一个“材料表面工程”博士培养......
V.负离子的形成在本节中,将描述负离子产生的两种不同方法: a.在气相中,由单能电子束轰击中性分子产生负离子。 b.在一种“双等离......
本文较系统地评述了无机质谱分析在1982各种至1986年中这一时期国内外的发展状态和今后要解决的课题。评述分为火花源质谱分析、二......
研究了用微波电子回旋共振(ECR)技术蒸发镀Ti膜、Cu膜。沉积速率达50.0nm/min左右,基片温度50~150℃。获得了附着力强的非晶态膜层......
利用脉冲碳等离子体源可以直接在Si和Ge片镀制类金刚石薄膜.被镀制的类金刚石薄膜一般采用激光拉曼光谱仪进行定性分析.实验结果表......
编者 :JG Holland和 SD Tanner。 2 0 0 1年 Royal Society of Chemistry出版。本书综合了在样品引入系统中的历程、反应池和碰撞......
环境压力在0.1-10 Torr的中等压力等离子体(Meso-plasma)兼具低气压冷等离子体和大气压热等离子体的优点,即具有比较高的等离子......
接口是质谱仪最关键的部分。高真空离子源(如电子轰击源、基体辅助激光解吸源等)可以与质量分析器直接配合,通常有较高的传输效......
综述了近年来国内外利用等离子体方法实现金属管件内表面强化的研究进展.介绍了几种管件内表面等离子体源离子注入和沉积技术,并对......
褶皱滤光膜是基于非均匀膜层设计的截止滤光片,能够克服高、低折射率膜层分界面之间的跃变,有效降低高级次反射带并完全抑制在设计......
水的富营养化在诸如湖泊、水库等许多地表饮用水源中引起严重的嗅味问题,主要致嗅物质包括二-甲基异莰醇(2-MIB)和土臭素(GSM),嗅......
再入航天器和高速空天飞行器面临的通信黑障问题是空天科学技术的前沿课题之一,为了认识和解决该问题,通过构建地面模拟实验装置,......
前 言 LT-1型离子探针质谱微分析仪(简称离子探针,本刊今年第2期封面刊登过此仪器外形及部份实验结果的照片)是一种利用离子光学原......
质谱是当今运用最为广泛的分析测试手段之一。尽管质谱仪器本身已经具有半个世纪以上的历史,但是仍然在离子源、质量分析和数据处......
作者从半导体硅桥(SCB)点火的机理出发,得到了实现SCB点火的基本关系式并计算了SCB在熔化、气化过程中与温度无关的比热.作者还对实现SCB点火有关参......
用外周血淋巴细胞短期培养法,对64头奶牛进行姐妹染色单体交换(SCE)频率的观察,结果表明,淋巴肉瘤牛、血检和MID双阳性牛、MID单阳......
本文介绍了自行研制的一台激光等离子体源飞行时间质谱计.该义器以高能量密度的脉冲激光作用于固体样品,产生的高温等离子体由原位......
采用 X 射线光电子谱( X P S) 分析300 ~500‘ C 等离子体源离子渗氮硼和碳化硼薄膜合成的氮化硼和硼碳氮薄膜利用合成薄膜成分可控的特点, 研究......
本文探讨采用小电极与大面积基片相对移动的方法来制造大面积薄膜的可行性,提出了采用小电极等离子体源在大面积基片上移动工作的......
哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室汤宝寅教授、王松雁副教授带领课题组,在国内外首先研究成功多功能等离子体浸没离子......
由等离子体源离子注入过程中圆筒零件与内电极构成的同轴圆柱电极间的鞘层扩展模型,推导出鞘层扩展前沿与扩展时间函数关系的微分方......
近年来,以高能量密度的脉冲激光束在高真空中溅射固体样品,已成为产生原子簇正负离子的一种有效手段。这些簇离子是由样品分子的......
研究了一种新的低温渗氮方法──电子回旋共振(ECR)微波等离子体源离子渗氮。对纯铁、45钢和35CrMo钢试样在150~350℃进行渗氮处理,测定了渗氮层的硬度和......
用等离子体源离子渗氮,即低能(1~3keV)、超大剂量(1019~1020ions/cm2量级)N+注入-同步扩散改性技术,在280℃和380℃下处理1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢,获得了最大深度分别为1.6μm和10.6μm,固溶N的最......
公开号 CN1206750A 申请人 西南交通大学 地址 610031四川省成都市 本发明通过采用特殊的等离子体源离子注入技术,即利用钛作为蒸发源、......