等离子化学气相沉积相关论文
阐述利用等离子化学气相沉积制备了非晶硅材料,然后在不同浓度的氢气气氛下进行了等离子退火处理,并对其折射率,消光系数和傅立叶......
为了得到杂质含量少、光学性能优异的高质量石英玻璃,本文研究开发了以化学气相沉积法为基础,以高频等离子体代替氢氧焰为热源来合成......
近年来,常压介质阻挡放电等离子薄膜气相沉积的研究逐渐兴起,是继真空等离子体气相沉积薄膜之后,很引人关注的一种制备薄膜的方法,......
InSb凝视焦平面器件(FPA)制造中,InSb芯片背面经磨抛减薄后需在表面沉积减反/钝化膜,增大InSb芯片对红外光的吸收,同时减少载流子......
本文用透射电镜和x光衍射仪揭示了PCVD法TiN涂层的物相及超细晶粒、位错、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。......
介绍了等离子化学气相沉积氮化钛技术在高速钢刀具和飞机用高速钢精密轴承上的应用,经PCVD-TiN处理的高速钢刀具可以提高其表面强度,降低摩擦......
纳米铜油墨涂覆制作超薄铜层FCCLIntrinsiq材料公司推出用纳米制造技术制造超薄铜挠性覆铜板(FCCL)。目前超薄铜FCCL制造采用等离子......
本文给出用等离子化学气相沉积(PCVD)技术制备的SnO2/Fe2O3 双层薄膜结构的俄歇谱(AES)剖面分析、透射电镜(TEM)断面形貌和扫描电......
传统的表面渗碳、渗氮热处理,工件表面渗层的硬度约为HVl000左右。与此相比,化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)以及等离子化学气相沉......
本文基于 Smartphone 透过率提升项目为背景,从 TFT像 素 区 材 料 出 发 , 研 究 了 材 料 对 透 过 率 的 影 响 . 利 用PECVD(Pl......
本发明中等离子化学气相沉积镀膜方法和设备包括:传统的可抽成真空的炉体;将汽化的、含有金属氯化物的和其它工作气体通入所述真空炉......
DC—BSS作为烧结陶瓷以及石英玻璃等硬脆材料的孔加工钻头、广受好评。为了回应广大客户希望对DC—BSS标准化的要求,DC—BSS将作为......
<正>沈阳拓荆科技有限公司是国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的12英寸PECVD设备企业。公司自2010年成立至今,已申请专利......
介绍了制备光学合成石英玻璃的常用工艺方法,包括化学气相沉积、等离子化学气相沉积和间接合成法等;给出了不同光学石英玻璃使用的......
<正> 0 前言 日本“东方工程公司”于1986年独自开发了能批量生产的等离子CVD(PCVD)设备,广泛应用于各种模具的表面处理。利用PCVD......
目前,人们对薄膜磁性能的认识已达到了一个新的水平,这除了人们对二元系物体的自发磁化问题很感兴趣以外,主要还是由于磁性薄膜已......
控制碳纳米管的取向生长,制备各种有序阵列结构的碳纳米管薄膜是实现碳纳米管实际应用的重要前提,也是实现碳纳米管实际应用的主要难......
在TFT-LCD制程中,采用了等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhancedchemical vapor deposition,PECVD)生长氮化硅薄膜,采用分步......
高性能光学合成石英玻璃因其优异的综合性能而成为激光核技术、航空航天、半导体集成电路、光电器件和精密仪器等高端光电子技术领......