【摘 要】
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<正> 不同偏压下利用多弧离子镀技术在U、Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）分析了U基薄膜的微观组织结构,扫描电镜（SEM）观察了其表面形貌。结果表明:所得薄膜
【机 构】
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表面物理与化学国家重点实验室; 大连理工大学三束国家重点实验室;
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<正> 不同偏压下利用多弧离子镀技术在U、Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）分析了U基薄膜的微观组织结构,扫描电镜（SEM）观察了其表面形貌。结果表明:所得薄膜随偏压的增加由Ti、TiN结构转变为Ti、TiN、Ti2N结构,薄膜表面平整,致密,但存在大颗粒和圆坑,且随偏压的增加大颗粒逐渐减少。Si基薄膜的界面场发射扫描电镜（FE-SEM）分析显示所得的多层膜呈犬牙交错的层状、柱状结构生长,薄膜厚度随偏压的增加有所减小,柱状晶结构细化。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能,随偏压的上
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