ZRN相关论文
C/C复合材料具有低密度、高比模量、高比强度、高韧性、耐烧蚀及耐热冲击、低热膨胀、抗热震等优点,且在高温的情况下力学性能较好......
以含Ti低碳微合金钢为研究对象,通过实验和热力学计算研究了Zr质量分数对钢中氮化物的影响规律.结果表明:随着钢中Zr质量分数由0.0......
纳米多层涂层的界面强化效应可提高涂层的硬度以及阻碍裂纹扩展并改善涂层的韧性,因而成为涂层材料的研究热点,其中含Al氮化物纳米......
采用射频反应磁控溅射法在(111)单晶Si基体上沉积ZrN扩散阻挡层，随后在其上分别用直流脉冲平衡磁控溅射(BMS)和非平衡磁控溅射(UBMS......
The influence of substrate-target orientation on the properties of ZrN films deposited by arc ion pl
The crystallograpic structure and properties of Zirconium nitride (ZrN) films deposited on 304 stainless steel were inve......
采用直流反应磁控溅射法淀积ZrN薄膜发现在（100）晶向硅片上ZrN薄膜按（111）晶向生长，控制生长工艺可以获得ZrN（111）晶向的外延生长膜．
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光治疗作为一种新兴的癌症治疗方式,与传统的手术治疗、化疗和放疗相比,侵袭性低,副作用小,具有广阔的临床应用前景。开发具有高生......
1 前言 现已采用在连铸用铝碳质水口中添加Si和Al,经过烧成,在耐火材料组织内产生碳化物结合和氮化物结合,增强机械强度的方法。......
以粉煤灰、锆英石和活性炭为原料,采用原位碳热还原氮化法成功制备β-Sialon/ZrN/ZrON复合材料。研究配料组成和保温时间对合成过......
探讨了一种新型的燃烧合成ＺｒＮ的工艺，该工艺的特点是用ＺｒＨ２作原料，在低压氮气下进行ＺｒＮ的燃烧合成。并讨论了其脱氢氮化机理，探索了产物相稀释剂......
利用多弧离子镀技术在1Cr18Ni9Ti表面沉积Ti、TiN、Zr、ZrN、ZrN+TiN等涂层,并对涂层进行化学钝化和高温扩散等后续处理,然后分别......
To further improve the thermal shock resistance and ablation resistance of SiBCN system ceramics targeted much harsh env......
采用磁控溅射技术在涂有介质漆的铝合金表面制备纯Al、Ti、Cr过渡层,在过渡层上溅射Zr N薄膜,并用划痕法测量不同复合薄膜的膜基结......
Preparation of β-Sialon/ZrN bonded corundum composites from zircon by nitridation reaction sintering
β-Sialon/ZrN bonded corundum composites were synthesized using fused white corundum, alumina micro powder, zircon and c......
采用真空阴极电弧沉积技术,在4组表面粗糙度不同的Cr17Ni2钢基体上制备Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜.采用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度......
采用多弧离子镀在304不锈钢基体表面沉积ZrN涂层。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、纳米压入仪、电化学分析仪等,比较了基片方向......
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以金属锆粉（Zr）和六方氮化硼粉（h-BN）为原料,结合高能球磨和高温高压合成技术,制备出了ZrN-ZrB2纳米复合材料。利用X射线衍射、透射电......
利用基于密度泛函理论的赝势平面波方法,研究了面心立方（fcc）和体心立方（bcc）结构ZrN的平衡态性质以及不同压力下的弹性性质,计算了fcc......
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通过磁控溅射法在纯钛表面溅射了一层ZrN涂层，研究了Ti／ZrN／瓷界面组织和力学性能。结果表明，Ti／瓷界面由富含Ti。Si，O元素的反应层和钛......
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根据固体与分子经验电子理论，通过键距差（ＢＬＤ）方法，对ＺｒＣ，ＺｒＮ和ＺｒＢ２相的价电子结构进行了计算：ＺｒＣ，ＺｒＮ，ＺｒＢ２晶体中最强键上的共价数ｎＡ和键能Ｅ的大小与硬度、熔点的高低......
β-Sialon/ZrN bonded corundum composites were synthesized using fused white corundum,alumina micro powder,zircon and car......
有从锆石的低费用的 ZrN-Si3N4 合成粉末被 carbothermal reduction-nitridation 过程准备。到 ZrSiO4 (m (C)/m (ZrSiO4 )) 和阶......
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采用真空阴极电弧沉积技术，在4组表面粗糙度不同的Cr_17Ni_2钢基体上制备Ti／TiN／Zr／ZrN多层膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度......
本文系统研究了烧成温度、氮气压力、埋粉组成及Z值对GPSZrO2-Sialon系统中的ZrN生成的影响，结果显示：通过加入有效烧结助剂（Al2O3+AI......
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由两种不同材料交替沉积形成的纳米多层膜具有如硬度升高的超硬效应等物理性能和力学性能的异常变化.研究发现,某些氮化物和氧化物......
研究了ＺｒＮ在Ｓｉ３Ｎ４－ＺｒＯ２复相陶瓷中的形成及其对材料性能的影响，结果表明：在１．５ＭＰａ Ｎ２气压烧结条件下，ＺｒＮ的形成温度约为１６００℃，提高Ｎ２的压力有利于抑制ＺｒＮ的生成，以稳定的......
随着高速、干式切削技术的发展,要求刀具涂层在具备高硬度的同时还应具有优良的高温抗氧化性.1987年发现两种氮化物以纳米量级交替......
用反应磁控溅射和离子束辅助沉积(IBAD)方法分别在(111)单晶硅基体上沉积了Cu/ZrSiN与Cu/ZrN膜系,制得的试样在800 ℃下分别在真空......
本文采用S-抢磁控溅射系统淀积ZrN薄膜,用扫描电镜、X射线衍射、反射电子衍射、俄歇电子能谱和电学测量等方法研究了衬底负偏压溅......
利用电感耦合等离子体(ICP)辅助射频磁控溅射技术,在Si(111)片表面制备了ZrN薄膜。研究发现,随着ICP功率的增大,基片的电流密度增......
利用感应耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在Si(111)片和M2钢表面制备了ZrN薄膜,研究了基片的温度和ICP功率对ZrN薄膜的结构......
为寻求一种简单、安全、成本低、产率高的合成ZrN的方法,以ZrO 2和Mg粉为主要原料,在熔盐介质中氮化合成ZrN粉体。研究了熔盐介质(......
采用中频孪生靶磁控溅射技术,在不锈钢和铝基体上沉积出ZrN/Zr薄膜,表征了薄膜的厚度、色度及表面形貌,研究了氮气流量对ZrN/Zr薄......
应用多功能PVD涂层设备，选择了最佳的工艺参数，采用中频磁控溅射和电弧离子镀的组合工艺方法，在YT15硬质合金基体上沉积ZrN涂层，测试了......
目的通过在不锈钢根管锉表面镀覆Ti N、Zr N薄膜,以提高其切削性能。方法采用磁控溅射技术,调整沉积时间、基片偏压、占空比等工艺......
采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对B1-ZrN的弹性性质和电子结构进行理论计算,通过计算得到多晶体的体模量、切变模量及杨氏......
综述了近年来ZrN系列薄膜的研究现状,描述了ZrN薄膜的重要性质,介绍了以ZrN薄膜为基础的多层膜和复合膜的研究状况,分析了制备方法......
氮化锆(ZrN)和碳化锆(ZrC)薄膜具有出色的物理和化学性能使其可以被应用于各种极端条件，如宇航用耐高温材料和核反应中燃料颗粒的涂......
利用磁控溅射方法通过改变沉积温度（Ts）制备一系列纳米ZrN涂层.采用X射线衍射、扫描电镜及CSM纳米力学综合测试系统表征了纳米ZrN涂......
