紫外光刻机相关论文
随着微机电系统(MEMS)对柔韧性和弹性日益增加的需求,提出了一种新型的基于ZnO和聚酰亚胺(PI)结构的声表面波器件(SAW).本文中采用......
从理论上系统性地研究了动态气体锁抑制率,提出了动态气体锁理论分析模型。通过理论分析推导出单组分和多组分清洁气体在等截面或......
进入90年代后,全球分步投影光刻机(Stepper)市场便逐渐由 Nikon、ASML、SVGL 和Ultratech 几家公司所垄断。特别是进入90年代中后......
本文介绍了日本卡农公司PLA—520FA型远紫外光刻机用各种抗蚀剂对远紫外的曝光特性和以一微米图形的LSI应用为目标所试验的结果。
......
作为极紫外光刻机的一个关键子系统,真空工件台的精度、速度、加速度、动态特性及同步性能对于光刻图形精度和光刻机的产率都起着......
近日,中科院光电所成功研发出URE-2000/35自动型光刻机。该产品集新颖性、可靠性、实用性为一体。采用三柔性支点实现高精度自动凋平......
中国科学院光电技术研究所,是中国科学院在西南地区规模最大的研究所.2001年整体进入中国科学院知识创新工程。......