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高能脉冲磁控溅射低温制备晶态薄膜的研究进展
高能脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)以峰值功率密度高,金属离化率高为特点,较传统直流磁控溅射(DCMS)具有其独有的优势。将高能脉冲磁控溅射(HI......
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