薄膜制备技术相关论文
1.前言透射电镜出现的初期,以样品的复型作为观察分析的对象,主要起到了将光学显微镜以形貌观察为主的方法延伸到高倍的范围。随......
文章介绍了基于钙钛矿过渡金属氧化物LaAlO_3/SrTiO_3界面的研究进展,其中特别关注了LaAlO_3/SrTiO_3界面上二维电子气的起源、超......
一、前言随着我国金卡工程的实施，IC卡的研究开发已成为一个热点。IC卡保存数据介质是低功耗MOS或CMOS芯片，其使用的存储器有RAM、RO......
１９９９年１１月３日至８日由中国有色金属学会半导体学术委员会举办的′９９全国砷化镓及相关化合物半导体学术会议在广西柳州召开。参加会议的代表来......
由于与硅集成电路工艺兼容的张应变锗薄膜在光电器件如光电探测器、调制器,特别是发光器件中具有潜在的应用前景,使其得到了广泛关......
与传统的薄膜制备技术相比，原子层沉积(ALD)技术具有低温生长、厚度精确可控、保形性好、均匀度高等优点。基于此，本文采用ALD ......
1989年10月20日至24日在安徽省太平县由中国有色金属学会半导体学术委员会召开了1989年全国 GaAs 及有关化合物会议和第一届全国 ......
经过多方努力,终于确定了对电子科技大学李言荣院士的采访安排,笔者如约来到电子科技大学沙河校区微电子与固体电子学院大楼。这是......
伴随着液晶显示的发展，用于透明电极的锢锡氧化物（ITO）薄膜的需要量急剧增加．目前，世界上的发达国家如日本、美国、法国等国将一半左右......
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全方位注入沉积复合镀膜技术是一种新颖的材料加工的新技术。它针对现有薄膜制备技术的不足,提供了一种薄膜复合制备方法与装置,它......
无铅铁电薄膜作为一种环境友好型的材料符合未来新材料发展的趋势与潮流,具有不可限量的发展前景。本文主要综述了四种体系(BFO、K......
由于离子源参数可独立控制、工作室内无等离子体以及能够精确控制膜的生长过程等优点,离子束成膜技术受到广泛重视。它已被用于超......
首先扼要阐述了与金刚石薄膜制备技术有关的等离子体特性,随后着重介绍了金刚石薄膜制备技术的最新进展。根据沉积工艺参数和装置......
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金刚石薄膜具有独特的优异性能,在世界科技界引起了普遍重视。本文列举了金刚石薄膜的制造方法,金刚石薄膜的成形原理,以及金刚石......
时间和空间分辨发射光谱方法被用来研究短脉冲（５ｎｓ）激光烧蚀钛靶过程中产生的等离子体羽。通过测量其中钛原子和离子的发射光谱，计算了等......
由于铁电薄膜具有一系列的特殊性质,如铁电开关特性、压电效应、热释电效应、电光和声光效应、非线性光学效应等,因而在微电子学及......
利用直流磁控溅射装置淀积ｎｃ－ＺｎＯ薄膜，而以ＳｉＯ２／Ｓｉ，Ａｎ／ＳｉＯ２／Ｓｉ和玻璃为基片．应用磁控溅射技术淀积压电ｎｃ－ＺｎＯ薄膜可以减小电子对ｎｃ－ＺｎＯ薄膜表面的轰击损伤，增加电子与反应粒......
本文描述了永磁非对称轴向二极场的结构和形态,这种磁场用于替代同轴线圈提供微波ECR等离子体CVD系统所需的磁场;简要分析了磁场对......
脉冲激光溅射镀膜是一种高质量的薄膜制备技术，本文研究分别以ＳｎＯ２和纯锡作靶，用此技术生长的ＳｎＯ２膜的结构及对氢、乙醇的气敏性，探索将此技术......
运用蒙特卡罗方法，模拟了不同条件下的物理气相淀积薄膜生长过程。在40×40个原子的简单立方单晶（100）面上，模拟计算了不同条件下所成......
近年来，铁电薄膜制备技术的迅速发展使得人工介电超晶格的生长成为现实。简要介绍了有关介电多层膜和人工介电超晶格的制备、结构和......
简要介绍了非线性光学薄膜制备技术的进展，分析比较了无定形膜、极化取向膜、ＬＢ膜及单晶膜在制备与应用方面的优缺点。
The progress......
文章介绍了田口方法的发展情况以及主要内容，展望了田口方法在离子镀上的应用前景，为离子镀技术的发展提供了一种先进的质量工程方法......
MAPLE(matrix-assisted pulsed laser evaporation)技术是近年来发展起来的一门有机薄膜制备技术,与传统的有机薄膜制备技术相比,......
10月的北京,金秋送爽,由中国硅酸盐学会主办的“功能陶瓷薄膜和涂层材料研讨会”于2009年10月13日～14日在北京召开。本次研讨会以《......
用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜。这些薄膜的光致发光峰是在370～395 nm之间,它来自于Ce3+离子的5d1激发态向基......
研究溶液温度、电流密度以及锌离子浓度在ITO导电玻璃上电沉积ZnO薄膜的影响。在电化学沉积溶液中添加表面活性剂:六次甲基四胺、......
日前,中航工业北京航空材料研究院成功突破制备大尺寸、高质量石墨烯薄膜的技术难题,掌握了衬底材料表面晶粒定向受控生长和化学气......
我们在近期收到不少读者来信 ,欲了解于本刊发表论文在职称时是否有效 ,本刊对稿件有哪些要求等等 ,现将这些问题解答如下。《新技......
研制了一种夹层结构的固体像加强器,它包括一层CdS光电导蒸发薄膜、一层绝缘性In/MgF_2遮光薄膜和一层混有介质的ZnS场致发光层。......
一、引言 硅膜广泛用于集成电路和传感器中。硅膜厚度及其均匀性对器件性能影响很大,尤其制备SiO_2上的硅膜是实现集成电路三维结......
经过近20年的发展,非晶半导体的研究——特别是氢化非晶硅(α-Si:H)——已成为当前凝聚态物理和固态电子学中最活跃的领域之一.这......
IBAD(离子束辅助淀积)是一种很有潜力的材料表面改性和优质薄膜合成技术。本文在论述它在薄膜科学研究中的特点和应用基础上,提出......
清洗用氟化气体材料的开发近年来，以半导体的高集成化为代表的电子工业在技术革新方面取得了显著的成绩，其中新材料的使用和新技术的......
本文中，我们结合薄膜制备技术与光刻技术，在金刚石对顶砧(DAC)上集成微电路，进行GaAs样品一直到25.02GPa的交流阻抗谱和原位电阻......
随着超导薄膜制备技术的成熟,高温超导探测器研制也已从单元走向多元、并向集成化发展,本文介绍作为高温超导探测器研制的关键技术......
该文介绍了ＩｎＳｂ薄膜制备技术的研究成果，阐述了ＩｎＳｂ薄膜的工艺机理与制备技术，指出了制备ＩｎＳｂ薄膜所解决的关键技术，并总结了制备ＩｎＳｂ薄膜的工艺条件和......
