退火气氛相关论文
在热轧加热炉中,燃气热值的波动会带来退火气氛的变化,钢坯在炉停留时间也会受生产节奏变化的影响产生变化,从而造成钢坯氧化难以......
如今,轻量化成为汽车发展的重要趋势,先进高强钢成为满足汽车轻量化和安全性的最优选择,其中中锰超高强度钢具有高强塑积（30-40GPa%......
多铁性材料是指具备铁电性、铁磁性和铁弹性中的两个或两个以上特性的材料。作为一种室温下同时具有铁电性和铁磁性的多铁性材料,B......
取向硅钢主要用来制作电力工业中变压器的铁芯,随着电力资源的使用量逐年升高,关于取向硅钢性能的研究越来越得到人们的重视。由于......
在室温条件下,采用溶胶凝胶方法在Pt基片上制备了Pt/Pb(Zr0.4Ti0.6)O3(PZT)/Pt电容器,而后样品在氧气和氮气的混合气氛中进行快速......
取向硅钢作为制造电机和变压器的核心材料，是装备制造行业发展的基石。在工业化生产中，产品质量存在不稳定不均匀的问题，这是由于在环......
本文在新研制的退火炉中开展大面积YBCO超导薄膜退火气氛(氧气和水蒸气)的研究实验.实验发现,不同的退火炉炉内温度下氧气的通入对......
会议
随着全球信息科技的不断进步和发展,很多传统单一的功能性材料已经不能满足社会各个行业的需求,人们不断地探索性能优异、适用范围......
用溶胶–凝胶法制备的钴掺杂氧化锌薄膜在不同气氛下退火后均显示室温铁磁性,并且具有不同的载流子浓度。通过对薄膜进行电、磁、......
利用溶胶-凝胶法在LaNiO_3/SiO_2/Si衬底上制备了0.7BiFeO_3-0.3PbTiO_3(BFPT7030)薄膜,利用快速退火方式将薄膜分别在空气、氧气......
过去的很多年里，多铁材料，铁电，铁磁，铁弹共存，吸引了广泛研究人员的兴趣，在理论和实验方面都做了很多工作。在这其中，磁电材料是一种......
本文对高精度铜板带的退火炉和清洗线的现状和发展进行了介绍.文章围绕高氢退火气氛、革新型工艺管理、新的带材连接装置、位于带......
铁酸铋薄膜是一种重要的多铁薄膜,在光伏储能、传感器、信息存储器等方面有着广阔的的应用前景。不同的制备工艺及元素掺杂均会影......
随着数据存储、传感器以及微机电系统(MEMS)应用需求的不断扩展，具备优异铁电压电性能的材料十分受欢迎。目前，锆钛酸铅(PZT)体系仍......
利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影......
利用金属有机物分解法(MOD)，在Pt/Ti/SiO2层的Si(100)衬底上制备了Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNdT)薄膜，并将其分别在氧气氛围和空气中进行......
在500℃且不同退火气氛（氮气、氧气）条件下,我们通过化学沉淀法成功制备了ZnO纳米颗粒.采用X射线衍射仪（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、光......
沉积在ZrN,TaN阻挡层上的Cu膜分别在真空和氢气、氮气的混合气氛下退火.利用SEM、XRD和电阻率来表征多层膜的热稳定性.实验结果表......
通过对不同气氛条件下退火的PbWO4(PWO)单晶样品的激发谱与发射谱的对比研究,发现真空退火从整体上抑制PbWO4的发光强度,氧空位(VO......
采用反应磁控溅射法在Ge衬底上制备了HfTiO高介电常数K栅介质薄膜，研究了不同气体（N2、NO、N2O）淀积后退火对Ge金属-氧化物-半导体（MOS......
研究了低氧分压反应溅射法生长的SnO2薄膜于600℃ O2气氛和Ar气氛退火处理后的表面形貌、晶体结构以及表面成分，发现经氧化性气氛退......
本文简述了运用磁控溅射的方法制备Al掺杂的ZnO薄膜，并运用退火工艺对薄膜进行处理，研究不同退火气氛对薄膜电学性能的影响，结合相关......
采用射频磁控溅射法制备了ZnO/TiO2/Si薄膜,研究了TiO2缓冲层的不同退火气氛对ZnO薄膜的影响.利用X射线衍射分析（XRD）、紫外-可见分......
<正> 引言 非晶材料内部没有晶界和晶体各向异性,经去应力退火后磁畴变得很宽大约2L/d>20～40在高频下非晶的磁滞损耗只占总损耗的很......
本文采用ｓｏｌ－ｇｅｌ法制备了掺银的ＴｉＯ２／ｇｌａｓｓ纳米光催化薄膜，并分别在空气和真空条件下对薄膜进行退火处理，结构和光催化性能的测试结果表明，退火气氛对薄......
在玻璃衬底上采用低压化学气相沉积法制备了B掺杂的ZnO薄膜，研究了真空气氛和氢气气氛下不同退火温度对ZnO：B（BZO）薄膜电学性能和光学......
通过醋酸铅、硝酸锆、钛酸丁酯分别制备独立稳定的前驱单体,采用Sol-Gel反提拉涂膜技术在基片Pt/Ti/SiO2/Si上制备PZT铁电薄膜.本......
通过在前驱气体D5源中添加甲烷，由ECRCVD沉积技术制备出了低介电常数的SiCOH薄膜，在甲烷流量为2sccm的条件下，获得了k值为2.45的薄膜......
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO：Al透明导电薄膜,研究生长温度和退火气氛对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
研究了（3．2％Si）无取向电工钢退火时气体组成、反应时间和温度对氧化铁皮去除的影响，并从氧化皮形态的角度对结果进行了探讨。退火试验在......
通过溶胶．凝胶法，采用Al、F共掺杂的方法在4种不同的气氛下制备ZnO薄膜，研究了薄膜的晶体结构、表面形貌、电阻率和透光性随退火气氛......
利用温度梯度法生长出了透明的γ-LiAlO2单晶,通过扫描电镜和X射线薄膜衍射分析了不同退火气氛对所切得的(001)晶片表面结构的影响......
摘要：以自制Mg0.2Zn0.8O：Al陶瓷为靶材，采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O：Al紫外透明导电薄膜。研究了溅射压强和退......
用深能级瞬态谱(DLTS)研究了高温退火处理后磷化铟中的深能级缺陷.在退火前以及纯磷和磷化铁气氛下,退火后低阻磷化铟中的深能级缺......
以Mn,Co,Ni过渡族金属为主的尖晶石结构材料(AB2O4)是一种具有电阻随温度上升而指数下降的材料,它具有较高的温度-电阻系数(TCR),......
采用溶胶-凝胶法以旋涂的方式在石英玻璃上制备锡掺氧化锌（ZnO∶Sn）透明导电薄膜,在不同的退火气氛下对薄膜进行热处理,以此研究退火......
本文主要采用射频磁控溅射的方法在单晶Si（100）和不锈钢基底上在室温的条件下制备了SiC薄膜，经过后期的高温退火处理得到了结晶态的Si......
采用射频磁控溅射法在Si衬底上制备了Fe掺杂ZnO纳米薄膜,并在真空和空气中对其进行热处理,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微(SEM)......
为研究退火气氛对氧化锌（AZO）薄膜光电性能的影响,采用溶胶-凝胶法在石英基片上制备铝掺杂AZO薄膜。利用X射线衍射、场发射电子扫描......
采用化学溶液分解法直接在单晶Si(100)衬底上制备了LaNiO3薄膜,研究了不同热处理气氛(空气和氧气)对薄膜的结晶性、晶粒尺寸、电阻......
