反应离子蚀刻相关论文
日本科学技术振兴事业团在世界率先研制成功使用透明氧化物的紫外发光二极管。很久以前，透明氧化物导电体ITO（氧化铟锡）就已实用化，作......
法国圣母大学的一个研究小组称,自对准InAlP热氧化物可避免亚微米长栅电极GaAs MOSFET中所见的泄漏问题。采用这种方法,P.Fay及其......
本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究，在反应离子蚀刻（ＲＩＥ）实验基础上，建立了锗材料蚀刻性能与ＲＩＥ工艺参量的关系，经过大量......
本文简述了冷阴极鞍形场离子源的工作原理和性能特点,介绍了原理性的实验和初步实验结果。
In this paper, the working principl......
本文介绍了具有反应离子蚀刻腔面的1.5μm—波导 BH 激光二极管(LD)。此外,还介绍了 TiO_2掩模和 Cl_2—Ar 混合气体的应用。蚀刻......
近年来,在光电集成电路(OEIC)及高速电子集成电路的微加工中,对GaAs及有关的Ⅲ—Ⅴ族化合物半导休的干法蚀刻已进行了广泛的研究......
去除金刚石表面层的可靠方法,对于微电子学及诸如金刚石表面抛光处理等应用领域来说都是极其重要的。我们的初步研究结果是,用O_2......
离子注入机从70年代开始应用于半导体掺杂以来,已经取得了很大的进展。从其应用范围来看已从半导体掺杂扩大到对金属注入(即材料......
研究微细制造不仅是为微电子工业服务,而且也可为研究亚微米大小物质的特性提供研究工具。各种方法包括光学、X射线和电子束光刻法......
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次波长光学元件(SOEs)通常是用光刻法制造的。这类光学元件含有一维或二维形式的阵列结构，这些阵列改变折射或反射光而不产生零以外......
The concept of an integrated 'lab on a chip' has long been a goal for the micro-electro-mechanical-systems(MEMS)......
文章简述了光电印制电路板中聚合物光波导层的制作应该遵循的原则，介绍了光波导层的主要成型工艺，包括反应离子蚀刻、平版影印、激光......
简述了光电印制板的工作原理,介绍了光电印制板用光波导材料及聚合物光波导层成型工艺,并简要介绍了光电印制电路板的测试方法。......
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应用有限元分析方法建立了多磁极约束磁增强型反应离子蚀刻装置内部的磁场分布模型.通过研究磁极的配置及磁化方向的调整,对蚀刻装......
电子级高纯氯是我国电子工业当前急需的特种气体，主要用于半导体元、器件和大规模集成电路制造工序中的热氧化、反应离子蚀刻、晶体......
Reactive ion etching characteristics of GaAs,GaSb, InP and InAs using Cl2/Ar plasma have been investigated, it is that,e......
本７文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究，在反应离子蚀刻实验基础上，建立了锗材料蚀刻材料与ＲＩＥ工艺参量的关系，经过大量......
