溅射电压相关论文
用磁控溅射法制备ZnO:Al透明导电膜时,降低溅射电压可以减少溅射等离子体中被靶背反射回的中性离子和负氧离子对基片的轰击,提高薄......
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用磁控溅射法制备ZnO:Al透明导电膜时,降低溅射电压可以减少溅射等离子体中被靶背反射回的中性离子和负氧离子对基片的轰击,提高薄......
本文采用直流反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜,研究和分析了溅射电压和薄膜沉积速率随氧流量的变化.在反应溅射过程中,溅射电压随氧......
磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术[1]、[2]、[3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高......
文章研究了溅射条件对Ｎｉ薄膜热敏电阻特性的影响。指出溅射电压，溅射气压，溅射中的加热条件，溅射中的直流偏压以及溅射条件对Ｎｉ薄膜特性的......
研究了直流磁控溅射参量对薄膜生长速率的影响。在自动化程度不高的普通溅射设备，通过适当增加预溅射时间、严格控制溅射电压和时间......
本文介绍了利用磁控反应溅射的方法，找到与制备低温度系数、高稳定性、高精度氮化钽薄膜电阻器相关的氮分压、溅射电压及烘烤温度等......
在氧化钒薄膜的直流磁控溅射制备中,氩流量是影响沉膜工艺以及薄膜织构和性能的重要因素之一.从氧化钒薄膜制备角度出发,研究了纯......
采用活化溅射方法,在不同溅射电压条件下,在NiTi形状记忆合金表面成功制备出了纳米TiO2生物薄膜.采用台阶轮廓仪和拉曼光谱仪研究......
制备参数对类金刚石（DLC）薄膜的性能和结构有显著影响。利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜，采用Raman光谱、X射线光电子......
采用直流反应磁控溅射法，通过精确控制反应溅射电压优化了氧化钒薄膜的制备工艺。对制备的氧化钒薄膜，利用四探针测试仪检测了薄膜的......
利用射频共溅射方法制备了一系列Co-Ta-O介质颗粒膜,用X射线能量色散谱和X射线光电子谱分析了薄膜的成分和元素价态,用X射线衍射测......
氧化钒一般以混合价态形式存在,常见的钒氧化物都具有金属—半导体相变的转化特性。氧化钒薄膜具有良好的热敏特性,在红外探测和热......
研究了用微波ＥＣＲ等离子体反应溅射制备透明导电氧化锌薄膜靶压及铝的掺入对薄膜电阻率和透光率的影响。制香电阻率为１０＾－５Ω．ｍ数量级，可见光平......
